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23/jun/02

Ingenieros de la Universidad de Princeton creó un sistema de construcción de microchips que es más rápido y menos costosos que el actual. Este método se basa en las máquinas de escribir.




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Chips fabricados a golpe de martillo

(Wired News) Un grupo de ingenieros de la Universidad de Princeton anunció un método que permite fabricar microchips de menores dimensiones, con mayor velocidad y menor costo que los métodos actuales. Este método consiste en grabar físicamente los microchips, y es similar a la técnica que se utiliza en las máquinas de escribir, en la cual una letra en sobrerrelieve golpea sobre una hoja de papel.

El sistema que hoy se utiliza, consiste en un haz de luz ultravioleta que impresiona una película fotosensible sobre la oblea de silicio. Esta película se revela de la misma forma que una fotografía, y el silicio se graba según este patrón fotográfico. Luego se retira la película, y en la oblea de silicio sólo quedan los canales que formarán la red circuital. No obstante, con la fotolitografía no se puede lograr componentes de dimensiones menores que la longitud de onda de la luz utilizada, que por lo general es de 193 nanómetros. Y como cada vez se reducen más las dimensiones de los microchips, cada vez se está más cerca de llegar al límite de este método.

"Con las técnicas ópticas se pueden lograr componentes (de microchips) de dimensiones sumamente reducidas, que pueden llegar a ser de un cuarto de la longitud de onda de la luz —explicó Tsu-Jae King, de la Universidad de California, sede Berkeley—. Por lo tanto, es mejor usar métodos de grabado físicos para lograr componentes de pequeñas dimensiones".

Tal como lo señaló King, ya hay microchips que tienen componentes que miden 65 nanómetros; con lo cual, los fabricantes están cerca del límite físico de la fotolitografía, además del tiempo y dinero que insumen los seis o siete pasos del proceso.

Stephen Y. Chou, de la Universidad de Princeton asegura que el nuevo método permite hacer todo a la vez. "Se coloca una oblea plana y, en una fracción de segundo, está hecho el patrón que habrá de seguir el circuito". Chou, cuyo trabajo ha sido publicado en la edición del jueves de Nature, desarrolló el método precursor de este proceso de fabricación de microchips en 1996.

En la versión anterior, la superficie de grabado, que era de cuarzo y en sobrerrelieve, era aplicada con presión sobre una oblea de silicio recubierta con una película. Luego se grababa el microchip, y se retiraba la película, como en el método tradicional. Sin embargo, el método que anunció el jueves hace todos estos pasos —el corte de la película, el revelado y el grabado— en una sola vez. El método consiste simplemente en presionar una superficie de grabado de cuarzo en sobrerrelieve contra el silicio y al cabo de un nanosegundo —que es lo que tarda el haz de láser en atravesar el cuarzo y llegar al silicio— ya está listo el microchip. El pulso de láser derrite la capa superficial de la oblea de silicio, la cual luego se dilata y adquiere la forma del molde. El método de Chou permite lograr componentes de microchips de apenas 10 nm, y, según su creador, tendría un costo 10 veces menor que el de la fotolitografía. Además, con este método ya no es necesario utilizar ni la película fotosensible ni las sustancias químicas que se usan para el revelado y el grabado, algunas de las cuales podrían ser contaminantes.

La nota completa en...

http://wired.terra.com.ar/wired/tecnologia/02/06/20/tec_46223.html


            

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